반도체 공정가스 실시간 모니터링 장비 개발

• 기간 및 예산 : 2023.04 ~ 2025.12[2년 9개월], 41억원 [산업부]
• 과제 필요성
  • - HF, HCL, NH3 같은 고반응성 가스는 기존 샘플링 방식 사용시 정밀 측정이 어려움
  • * 고분진·고수분 등으로 작동 오류, 연속 측정 불가능
  • - TDLAS 기반 측정시 실시간 연속 모니터링 가능
  • * 기존 외국산의 경우 높은 설비 가격과 1종류만 측정 가능
• 과제 목표
  • - TDLAS 기반 실시간 연속 모니터링 장비 개발
  • * 가스측정 정밀도 99% 이상, 1초 이내 판별, 12시간 연속 측정
  • - 가격 경쟁력 확보 및 성과 확산
  • * 외국산 50% 수준의 가격, 여타 가스 및 업종으로 확대